納米鈰基復(fù)合拋光液 產(chǎn)品特征： SHNF系列納米鈰基復(fù)合拋光液是在納米氧化鈰的基礎(chǔ)上復(fù)合納米硅、鋁、鋯等材料，既能夠保證達(dá)到或超過二氧化硅所達(dá)到的細(xì)的表面光潔度，也保證能夠達(dá)到氧化鈰拋光劑達(dá)到的拋光速度，形成一種獨(dú)特的拋光效果，拋光液質(zhì)量穩(wěn)定，粒度可控，顆粒度分布集中，并具有以下特點(diǎn)： 1、 軟硬度適中、不劃傷被拋物面。 2、 懸浮性好，不易沉淀，使用方便。 3、 分散性好、乳液均一，極大提高了拋光效率和精度。 適用領(lǐng)域： 1、適用于DSTI-CMP、集成電路光掩模、高精密光學(xué)儀器、光學(xué)鏡頭、液晶顯示屏、多芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光。 2、半導(dǎo)體材料、玻璃材料的拋光，尤其是需要拋光到極細(xì)的表面光潔度要求的， 技術(shù)指標(biāo)： 型號(hào) 粒度(D：50，μm) 濃度（wt％） PH 適 用 SHNF-08 0.05-0.09 20-40 7-9 DSTI-CMP SHNF-2 0.1-0.2 20-40 7-9 DSTI-CMP SHNF-4 0.3-0.4 20-40 7-9 高精密光學(xué)儀器等 SHNF-6 0.5-0.6 20-40 7-9 高精密光學(xué)儀器等 SHNF-8 0.7-0.8 20-40 7-9 高精密光學(xué)儀器等 SHNF-10 0.9-1.0 20-40 7-9 高精密光學(xué)儀器等 備注：以上也可根據(jù)用戶需要不同濃度和不同粒度而調(diào)整。 注意事項(xiàng)： 1． 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。 2． 使用時(shí)，以不同濃度并據(jù)不同行業(yè)的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調(diào)制不同濃度。 儲(chǔ) 存：本品需在0℃以上儲(chǔ)存，防止結(jié)塊，在0℃以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。 包 裝：1 L/瓶、5 L/瓶、20 L/瓶，或據(jù)客戶要求。